C-43A型光刻機 9英寸 精密光刻機

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C-43A型光刻機 9英寸 精密光刻機
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C-43A型光刻機9英寸精密光刻機是一款高精度的光刻設備，適用于多種應用領域，包括中小規(guī)模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路和電力電子器件的研制和生產。這款設備具備特殊的找平機構，使其不僅適用于各種常見材料如硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光，還能處理非圓形基片和小型基片的曝光需求。

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以下是C-43A型光刻機9英寸精密光刻機的主要技術特點：

1. 承片臺： 設備配置了一件承片臺，其具體尺寸可以根據用戶的需求進行定制，以適應不同的工作場景。

2. 曝光頭： 該光刻機采用高均勻性多點光源曝光頭，確保出射光斑小于230毫米。它搭載了350W高壓直流汞燈，使光的不均勻性在直徑230毫米的范圍內低于8%。這有助于實現在真空密封條件下的曝光。光的強度可以通過X、Y、Z軸進行精確調節(jié)，而曝光時間則可以通過0.1秒到999.9秒的時間繼電器進行設定。

3. 汞燈位置調節(jié)： 曝光頭的汞燈位置可以通過精密的X、Y、Z軸調節(jié)裝置進行微調，X軸調節(jié)量為5毫米，而Y軸可以在-5毫米到+5毫米之間調節(jié)。這有助于確保光斑的準確位置。

4. 冷卻裝置： 設備配備了風扇冷卻裝置，有助于保持設備的穩(wěn)定性和性能，特別是在長時間操作時。

5. 分辨率： 該光刻機具備2微米的分辨率，適用于高精度的曝光需求。

6. 真空吸片功能： 具備真空吸附功能，可以在不同密封度下實現硬接觸曝光（密封真空-0.05Mpa）、軟接觸曝光（密封真空在-0.05Mpa到-0.02Mpa之間）和微力接觸曝光（密封真空>-0.02Mpa）。這提供了更大的靈活性，以滿足不同曝光需求。

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C-43A型光刻機9英寸精密光刻機是一款高性能的精密光刻設備，適用于多種應用領域，并具備多項先進技術，以滿足不同用戶的曝光和加工需求。它的靈活性、精度和可調性使其成為科研單位和企業(yè)的理想選擇。